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P MOS Grade 2 avanza lentamente sic el SBD del nivel P P de la oblea de Epi califica el grado 150.0m m de D

Certificación
CHINA Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd. certificaciones
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P MOS Grade 2 avanza lentamente sic el SBD del nivel P P de la oblea de Epi califica el grado 150.0m m de D

P MOS Grade 2 avanza lentamente sic el SBD del nivel P P de la oblea de Epi califica el grado 150.0m m de D
P MOS Grade 2 avanza lentamente sic el SBD del nivel P P de la oblea de Epi califica el grado 150.0m m de D

Ampliación de imagen :  P MOS Grade 2 avanza lentamente sic el SBD del nivel P P de la oblea de Epi califica el grado 150.0m m de D

Datos del producto:
Lugar de origen: Suzhou China
Nombre de la marca: GaNova
Certificación: UKAS/ISO9001:2015
Número de modelo: JDCD03-002-008
Pago y Envío Términos:
Detalles de empaquetado: Envasado al vacío en un entorno de sala limpia de clase 10000, en casetes de 25 piezas o en contened
Tiempo de entrega: 3-4 días de la semana
Condiciones de pago: T/T

P MOS Grade 2 avanza lentamente sic el SBD del nivel P P de la oblea de Epi califica el grado 150.0m m de D

descripción
Crystal Form: 4h Nombre de producto: Oblea sic epitaxial
Diámetro: 150.0m m +0mm/-0.2mm Orientación superficial: De fuera del eje: ° de 4°toward <11-20>±0.5
Longitud plana primaria: ± 1.5m m de 47.5m m Longitud plana secundaria: Ningún plano secundario
Misorientation ortogonal: ±5.0° Grueso a: 350.0μm± los 25.0μm
Resaltar:

El P-MOS califica sic la oblea de Epi

,

substrato de 150.0m m sic

,

Sic nivel P de la oblea de Epi

El nivel P de 2 pulgadas P-SBD del substrato del grado P-MOS sic califica el grado 150,0 milímetro +0mm/-0.2mm de D

Sic nivel P de 2 pulgadas los 4H-N/SI260μm±25μm del substrato JDCD03-001-001<0001> para los dispositivos de poder y los dispositivos de la microonda

Descripción

En el a nivel sistema, este resultados en soluciones altamente compactas con rendimiento energético sumamente mejorado en el coste reducido. La lista rápidamente cada vez mayor de usos comerciales actuales y proyectados que utilizan sic tecnologías incluye fuentes de alimentación que cambian, los inversores para la generación solar y del molino de viento de la energía, las impulsiones industriales del motor, los vehículos de HEV y de EV, y transferencia del poder de la Smart-rejilla.

Propiedad

Grado P-MOS Grado de P-SBD Grado de D
Crystal Form 4H
Polytype Ningunos permitieron El Area≤5%
(MPD) a ≤0.2 /cm2 ≤0.5 /cm2 ≤5 /cm2
Placas del hex. Ningunos permitieron El Area≤5%
Polycrystal hexagonal Ningunos permitieron
Inclusiones a El Area≤0.05% El Area≤0.05% N/A
Resistencia 0.015Ω•cm-0.025Ω•cm 0.015Ω•cm-0.025Ω•cm 0.014Ω•cm-0.028Ω•cm
(EPD) a ≤4000/cm2 ≤8000/cm2 N/A
(TED) a ≤3000/cm2 ≤6000/cm2 N/A
(BPD) a ≤1000/cm2 ≤2000/cm2 N/A
(TSD) a ≤600/cm2 ≤1000/cm2 N/A
Falta de amontonamiento Área del ≤0.5% Área del ≤1% N/A

Contaminación de metal superficial

(Al, Cr, FE, Ni, Cu, Zn, Pb, Na, K, Ti, Ca, V, manganeso) ≤1E11 cm-2

Diámetro 150,0 milímetros +0mm/-0.2mm
Orientación superficial De fuera del eje: ° <11-20>de 4°toward ±0.5
Longitud plana primaria 47,5 milímetros de ± 1,5 milímetros
Longitud plana secundaria Ningún plano secundario
Orientación plana primaria To±1° paralelo<11-20>
Orientación plana secundaria N/A
Misorientation ortogonal ±5.0°
Final superficial C-cara: Polaco óptico, Si-cara: CMP
Borde de la oblea El biselar

Aspereza superficial

(el 10μm×10μm)

Cara Ra≤0.20 nanómetro del Si; Cara Ra≤0.50 nanómetro de C
Grueso a μm 350.0μm± 25,0
LTV (10mm×10m m) a ≤2μm ≤3μm
(TTV) a ≤6μm ≤10μm
(ARCO) a ≤15μm ≤25μm ≤40μm
(Deformación) a ≤25μm ≤40μm ≤60μm
Microprocesadores/mellas Ningunos permitieron anchura y profundidad de ≥0.5mm Anchura y profundidad de Qty.2 ≤1.0 milímetro

Rasguños a

(Cara del Si, CS8520)

≤5 y diámetro acumulativo de Length≤0.5×Wafer

≤5 y Length≤1.5×Wafer acumulativo

Diámetro

TUA (2mm*2m m) el ≥98% el ≥95% N/A
Grietas Ningunos permitieron
Contaminación Ningunos permitieron
Propiedad Grado P-MOS Grado de P-SBD Grado de D
Exclusión del borde 3m m

Observación: la exclusión del borde de 3m m se utiliza para los artículos marcados con el A.

Sobre nosotros

Nos especializamos en el proceso de una variedad de materiales en las obleas, los substratos y parts.components de cristal óptico modificado para requisitos particulares ampliamente utilizados en electrónica, la óptica, la electrónica opta y muchos otros campos. También hemos estado trabajando de cerca con muchos nacionales y las universidades, las instituciones de investigación y las compañías de ultramar, proporcionan productos modificados para requisitos particulares y los servicios para sus proyectos del R&D. Es nuestra visión a mantener una buena relación de la cooperación con nuestros todos los clientes por nuestras buenas reputaciones.

FAQ

Q: ¿Es usted empresa comercial o el fabricante?
Somos fábrica.
Q: ¿Cuánto tiempo es su plazo de expedición?
Es generalmente 3-5 días si las mercancías están en existencia.
o es 7-10 días si las mercancías no están en existencia, él está según cantidad.
Q: ¿Usted proporciona muestras? ¿está él libremente o adicional?
Sí, podríamos ofrecer la carga de la muestra gratis pero no pagamos el coste de carga.
Q: ¿Cuál es sus términos del pago?
Pago <> >=5000USD, el 80% T/T del pago por adelantado, balanza antes del envío.

Contacto
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

Persona de Contacto: Xiwen Bai (Ciel)

Teléfono: +8613372109561

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