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Datos del producto:
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| Nombre de producto: | Oblea sic epitaxial | Crystal Form: | 4h |
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| Final superficial: | C-cara: Polaco óptico, Si-cara: CMP | Diámetro: | 150.0m m +0mm/-0.2mm |
| Orientación superficial: | De fuera del eje: ° de 4°toward <11-20>±0.5 | Longitud plana primaria: | ± 1.5m m de 47.5m m |
| Resaltar: | C-cara sic epitaxial de la oblea,Obleas epitaxiales del carburo de silicio,Oblea sic epitaxial del CMP |
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C-cara sic epitaxial de la oblea JDCD03-001-004: Polaco óptico, Si-cara: CMP
Descripción
Implica el crecimiento de cristales de un material en la cara cristalina de otro (heteroepitaxy) o mismo material (homoepitaxy). La estructura de enrejado y la orientación o la simetría del enrejado del material de la película fina es idéntica a la del substrato en el cual se deposita. Lo que es más importante, si el substrato es un solo cristal, después la película fina también sea un solo cristal. Contraste con la capa monomolecular uno mismo-montada y mesotaxy.
| Propiedad | Grado P-MOS | Grado de P-SBD | Grado de D |
| Crystal Form | 4H | ||
| Polytype | Ningunos permitieron | El Area≤5% | |
| (MPD) a | ≤0.2 /cm2 | ≤0.5 /cm2 | ≤5 /cm2 |
| Placas del hex. | Ningunos permitieron | El Area≤5% | |
| Polycrystal hexagonal | Ningunos permitieron | ||
| Inclusiones a | El Area≤0.05% | El Area≤0.05% | N/A |
| Resistencia | 0.015Ω•cm-0.025Ω•cm | 0.015Ω•cm-0.025Ω•cm | 0.014Ω•cm-0.028Ω•cm |
| (EPD) a | ≤4000/cm2 | ≤8000/cm2 | N/A |
| (TED) a | ≤3000/cm2 | ≤6000/cm2 | N/A |
| (BPD) a | ≤1000/cm2 | ≤2000/cm2 | N/A |
| (TSD) a | ≤600/cm2 | ≤1000/cm2 | N/A |
| Falta de amontonamiento | Área del ≤0.5% | Área del ≤1% | N/A |
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Contaminación de metal superficial |
(Al, Cr, FE, Ni, Cu, Zn, Pb, Na, K, Ti, Ca, V, manganeso) ≤1E11 cm-2 |
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| Diámetro | 150,0 milímetros +0mm/-0.2mm | ||
| Orientación superficial | De fuera del eje: ° <11-20>de 4°toward ±0.5 | ||
| Longitud plana primaria | 47,5 milímetros de ± 1,5 milímetros | ||
| Longitud plana secundaria | Ningún plano secundario | ||
| Orientación plana primaria | To±1° paralelo<11-20> | ||
| Orientación plana secundaria | N/A | ||
| Misorientation ortogonal | ±5.0° | ||
| Final superficial | C-cara: Polaco óptico, Si-cara: CMP | ||
| Borde de la oblea | El biselar | ||
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Aspereza superficial (el 10μm×10μm) |
Cara Ra≤0.20 nanómetro del Si; Cara Ra≤0.50 nanómetro de C | ||
| Grueso a | μm 350.0μm± 25,0 | ||
| LTV (10mm×10m m) a | ≤2μm | ≤3μm | |
| (TTV) a | ≤6μm | ≤10μm | |
| (ARCO) a | ≤15μm | ≤25μm | ≤40μm |
| (Deformación) a | ≤25μm | ≤40μm | ≤60μm |
| Microprocesadores/mellas | Ningunos permitieron anchura y profundidad de ≥0.5mm | Anchura y profundidad de Qty.2 ≤1.0 milímetro | |
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Rasguños a (Cara del Si, CS8520) |
≤5 y diámetro acumulativo de Length≤0.5×Wafer |
≤5 y Length≤1.5×Wafer acumulativo Diámetro |
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| TUA (2mm*2m m) | el ≥98% | el ≥95% | N/A |
| Grietas | Ningunos permitieron | ||
| Contaminación | Ningunos permitieron | ||
| Propiedad | Grado P-MOS | Grado de P-SBD | Grado de D |
| Exclusión del borde | 3m m | ||
Observación: la exclusión del borde de 3m m se utiliza para los artículos marcados con el A.
Sobre nosotros
Nos especializamos en el proceso de una variedad de materiales en las obleas, los substratos y parts.components de cristal óptico modificado para requisitos particulares ampliamente utilizados en electrónica, la óptica, la electrónica opta y muchos otros campos. También hemos estado trabajando de cerca con muchos nacionales y las universidades, las instituciones de investigación y las compañías de ultramar, proporcionan productos modificados para requisitos particulares y los servicios para sus proyectos del R&D. Es nuestra visión a mantener una buena relación de la cooperación con nuestros todos los clientes por nuestras buenas reputaciones.
FAQ
Q: ¿Es usted empresa comercial o el fabricante?
Somos fábrica.
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Es generalmente 3-5 días si las mercancías están en existencia.
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Q: ¿Usted proporciona muestras? ¿está él libremente o adicional?
Sí, podríamos ofrecer la carga de la muestra gratis pero no pagamos el coste de carga.
Q: ¿Cuál es sus términos del pago?
Pago <>
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