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cristal 4" del carburo de silicio de 100.0m m grado Politype 4H de P

Certificación
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cristal 4" del carburo de silicio de 100.0m m grado Politype 4H de P

cristal 4" del carburo de silicio de 100.0m m grado Politype 4H de P
cristal 4" del carburo de silicio de 100.0m m grado Politype 4H de P

Ampliación de imagen :  cristal 4" del carburo de silicio de 100.0m m grado Politype 4H de P

Datos del producto:
Número de modelo: JDZJ01-001-001
Pago y Envío Términos:
Detalles de empaquetado: Empaquetado en una sala limpia en un contenedor de semillas individuales
Tiempo de entrega: 3-4 días de la semana

cristal 4" del carburo de silicio de 100.0m m grado Politype 4H de P

descripción
politipo: 4h Diámetro: 100,0 mm±0,5 mm
Tipo del portador: N-TYPE Orientación: 4,0°±0,2°
Orientación plana primaria: {10-10} ±5.0° Orientación plana secundaria: Si-cara: 90°cw.from flat±5° primario
Resaltar:

Grado cristalino del carburo de silicio P

,

solo carburo de silicio cristalino

,

Carburo de silicio 4H cristalino

100.0mm±0.5m m sic siembran el cristal 4" el grado 4.0°±0.2° Politype 4H de P

Sic siembre el cristal 4" PGrade

Sic puede soportar una pendiente del voltaje (o el campo eléctrico) sobre ocho veces mayor que el Si o el GaAs sin experimentar avería de avalancha. Este campo eléctrico de la alta avería permite la fabricación de dispositivos muy de alto voltaje, de alta potencia tales como diodos, de transitors del poder, de tiristores del poder y de amortiguadores de onda, así como de dispositivos de la microonda del poder más elevado. Además, permite que los dispositivos sean puestos muy cerca junto, proporcionando la alta densidad de embalaje del dispositivo para los circuitos integrados.

sic especificaciones del lingote 6inch
Grado Grado de la producción Grado simulado
Politype 4H
Diámetro 100.0mm±0.5m m
Tipo del portador N-tipo
Resistencia los 0.015~0.028ohm.cm
Orientación 4.0°±0.2°
Orientación plana primaria {10-10} ±5.0°
Longitud plana primaria 32.5mm±2.0m m
Orientación plana secundaria Si-cara: 90°cw.from flat±5° primario
Longitud plana secundaria 18.0mm±2.0m m
Grietas del borde por la luz de intensidad alta ≤1mm en parte radial ≤3mm en parte radial
Placas del hex. por la luz de intensidad alta Size<1mm, el area<1% acumulativo El area<5% acumulativo
Áreas de Polytype por la luz de intensidad alta Ninguno ≤5%area
Densidad de MicroPipe Es prueba destructiva. Si algún desacuerdo, las muestras para la contra-prueba del proveedor es proporcionado por el cliente.

Es prueba destructiva. Si algún desacuerdo, las muestras para la contra-prueba del proveedor es proporcionado por el cliente.

Microprocesador del borde ≤1 con longitud máxima y anchura 1 milímetro ≤3 con longitud máxima y anchura 3 milímetros

Sobre nosotros

Nos especializamos en el proceso de una variedad de materiales en las obleas, los substratos y parts.components de cristal óptico modificado para requisitos particulares ampliamente utilizados en electrónica, la óptica, la electrónica opta y muchos otros campos. También hemos estado trabajando de cerca con muchos nacionales y las universidades, las instituciones de investigación y las compañías de ultramar, proporcionan productos modificados para requisitos particulares y los servicios para sus proyectos del R&D. Es nuestra visión a mantener una buena relación de la cooperación con nuestros todos los clientes por nuestras buenas reputaciones.

FAQ

Q: ¿Es usted empresa comercial o el fabricante?
Somos fábrica.
Q: ¿Cuánto tiempo es su plazo de expedición?
Es generalmente 3-5 días si las mercancías están en existencia.
o es 7-10 días si las mercancías no están en existencia, él está según cantidad.
Q: ¿Usted proporciona muestras? ¿está él libremente o adicional?
Sí, podríamos ofrecer la carga de la muestra gratis pero no pagamos el coste de carga.
Q: ¿Cuál es sus términos del pago?
Pago <> >=5000USD, el 80% T/T del pago por adelantado, balanza antes del envío.

Contacto
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

Persona de Contacto: Xiwen Bai (Ciel)

Teléfono: +8613372109561

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