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Datos del producto:
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Nombre de producto: | Cristal único de AlN | Aspereza: | Cara Al: ≤ 0,5 nm Cara N (posterior): ≤ 1,2 μm |
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Aspecto: | Borde de posicionamiento de la correa circular | TUA: | el ≥90% |
Orientación del borde de posicionamiento principal: | {10-10} ±5.0° | TTV (μm): | ≤30 |
Resaltar: | Oblea de nitruro de aluminio de 1'',AlN Wafer S Grade,Oblea de nitruro de aluminio 400um |
1'' AlN Monocristal 400±50μm S/P/R Grado Aluminio Superficie: Pulido químico Pulido doble Se puede personalizar
JDCD02-001-003 Cristal simple AlN de 1 pulgada 400±50 μm Grado S/P/R
¿Qué es el nitruro de aluminio?El nitruro de aluminio (AlN) es un material excelente para usar si se requieren propiedades de alta conductividad térmica y aislamiento eléctrico;lo que lo convierte en un material ideal para su uso en gestión térmica y aplicaciones eléctricas.
El material es estable a altas temperaturas bajo una atmósfera inerte.Tiene una capa protectora de óxido que protege el material hasta 1370°C.También es estable en atmósferas de hidrógeno hasta 980°C.Puede disolverse o hidrolizarse con un álcali fuerte, pero es resistente a la mayoría de las sales fundidas y la criolita.Por eso es tan útil en microelectrónica.
Sustrato monocristalino de nitruro de aluminio de 1 pulgada | |||
Especificaciones de cristal | Valor del parámetro | ||
Diámetro (mm) | 25,4±0,5 | ||
Espesor (μm) | 400±50 | ||
forma de cristal | 2H | ||
politipo | {0001}±0,5° | ||
Pulido de superficies | Superficie de aluminio: pulido químico (se puede personalizar el doble pulido) | ||
Aspereza |
Al cara: ≤0.5nm Cara N (espalda): ≤1,2 μm |
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apariencia | Borde de posicionamiento de la correa circular | ||
Grado de calidad | Grado S (súper) | Grado P (Producción) | Grado R (Investigación) |
HRXRD Ancho de media altura @{0002}(arcsec) | ≤150 | ≤300 | ≤500 |
HRXRD Ancho de media altura @{10-12}(arcsec) | ≤100 | ≤200 | ≤400 |
coeficiente de absorción@265nm(cm-1) | ≤50 | ≤70 | ≤100 |
Exclusión de borde (mm) | 1 | 1 | 1 |
sangrías | / | / | / |
Papas fritas | / | / | ≤3 Acumulativo ≤1.0mm |
TUA | ≥90% | ||
Orientación del borde de posicionamiento principal | {10-10}±5,0° | ||
Orientación de la superficie de ubicación secundaria |
Al cara: gire en el sentido de las agujas del reloj en la dirección del borde de posicionamiento principal 90 ° ± 5 ° Cara N: gire en sentido contrario a las agujas del reloj en la dirección del borde de posicionamiento principal 90 ° ± 5 ° |
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TTV (μm) | ≤30 | ||
Deformación (μm) | ≤30 | ||
Arco (μm) | ≤30 | ||
Grietas | No, a simple vista, luz fuerte | ||
Contaminación | No, a simple vista, radiación. | ||
Codificación láser | Cara N, paralela al borde de ubicación principal | ||
Paquete | Caja de oblea monolítica |
Sobre nosotros
Nos especializamos en el procesamiento de una variedad de materiales en obleas, sustratos y piezas de vidrio óptico personalizadas. Componentes ampliamente utilizados en electrónica, óptica, optoelectrónica y muchos otros campos.También hemos estado trabajando en estrecha colaboración con muchas universidades, instituciones de investigación y empresas nacionales y extranjeras, proporcionando productos y servicios personalizados para sus proyectos de I+D.Nuestra visión es mantener una buena relación de cooperación con todos nuestros clientes gracias a nuestra buena reputación.
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