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Datos del producto:
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| Nombre de producto: | Solo substrato cristalino de GaN | Dimensiones: | 10x10,5 mm² |
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| Grueso: | 350 ±25µm | Orientación: | Plano C (0001) fuera de ángulo hacia el eje M 0,35 ±0,15° |
| TTV: | ≤ el 10µm | Densidad macra del defecto: | ² 0cm⁻ |
| Resaltar: | Tratamiento superficial de los sustratos de GaN,Substratos de GaN epitaxiados,Substrato de GaN pulido |
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10*10,5 mm² C-face Sustrato monocristalino de GaN independiente tipo n no dopado Resistividad < 0,1 Ω·cm Dispositivo de potencia/láser
Descripción general
Proporcionamos sustratos de GaN de alta calidad que se producen mediante el método HVPE (Hydride Vapor Phase Epitaxy) diseñado originalmente, utilizando más de 10 años de experiencia en el negocio de epi-wafer de GaAsP.
| Sustratos de GaN independientes de 10 x 10,5 mm2 | ||||
| Artículo | GaN-FS-CU-S10 | GaN-FS-CN-S10 | GaN-FS-C-SI-S10 |
Observaciones: |
| Dimensiones | 10x10,5mm2 | |||
| Espesor | 350 ±25 micras | |||
| Orientación | Plano C (0001) fuera de ángulo hacia el eje M 0,35 ±0,15° | |||
| Tipo de conducción | tipo N | tipo N | Semiaislante | |
| Resistividad (300K) | < 0,1 Ω·cm | < 0,05 Ω·cm | > 106Ω·cm | |
| TTV | ≤ 10 micras | |||
| Arco | - 10 µm ≤ ARCO ≤ 10 µm | |||
| Rugosidad de la superficie de la cara Ga | < 0,2 nm (pulido) o < 0,3 nm (pulido y tratamiento superficial para epitaxia) |
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| Rugosidad de la superficie de la cara N | 0,5 ~ 1,5 micras opción: 1~3 nm (molienda fina);< 0,2 nm (pulido) |
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| Densidad de dislocación | Desde 1x105a 3 x 106cm-2(calculado por CL)* | |||
| Densidad de macrodefectos | 0cm-2 | |||
| Área utilizable | > 90% (exclusión de bordes) | |||
| Paquete | Empaquetado en un ambiente de sala limpia de clase 100, en un contenedor de 6 PCS, bajo una atmósfera de nitrógeno | |||
*Estándares nacionales de China (GB/T32282-2015)
Sobre nosotros
Nos especializamos en el procesamiento de una variedad de materiales en obleas, sustratos y piezas de vidrio óptico personalizadas. Componentes ampliamente utilizados en electrónica, óptica, optoelectrónica y muchos otros campos.También hemos estado trabajando en estrecha colaboración con muchas universidades, instituciones de investigación y empresas nacionales y extranjeras, proporcionando productos y servicios personalizados para sus proyectos de I+D.Nuestra visión es mantener una buena relación de cooperación con todos nuestros clientes gracias a nuestra buena reputación.
Preguntas más frecuentes
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Somos fábrica.
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