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Datos del producto:
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| Nombre de producto: | GaN Epitaxial Wafer | Dimensiones: | 10x10,5 mm² |
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| Grueso: | 350 ±25µm | Orientación: | Plano C (0001) fuera de ángulo hacia el eje M 0,35 ±0,15° |
| TTV: | ≤ el 10µm | Arco: | - ≤ el 10µm del ARCO del ≤ del 10µm |
10*10,5 mm² C-face Sustrato monocristalino de GaN independiente tipo n no dopado Resistividad < 0,1 Ω·cm Dispositivo de potencia/láser
Aplicaciones
Diodos láser: LD violeta, LD azul y LD verde
Dispositivos electrónicos de potencia, Dispositivos electrónicos de alta frecuencia
Más de 10 años de experiencia en tecnología de fabricación de obleas con sustratos de GaAs se han aplicado a la producción de sustratos de GaN.El sustrato de GaN tiene una orientación superficial controlada, libre de daños, muy plana (Rms < 0,2 nm), y superficies de pasos atómicos controlados.Se ha logrado una calidad superficial adecuada para el crecimiento epitaxial.
| Sustratos de GaN independientes de 10 x 10,5 mm2 | ||||
| Artículo | GaN-FS-CU-S10 | GaN-FS-CN-S10 | GaN-FS-C-SI-S10 |
Observaciones: |
| Dimensiones | 10x10,5mm2 | |||
| Espesor | 350 ±25 micras | |||
| Orientación | Plano C (0001) fuera de ángulo hacia el eje M 0,35 ±0,15° | |||
| Tipo de conducción | tipo N | tipo N | Semiaislante | |
| Resistividad (300K) | < 0,1 Ω·cm | < 0,05 Ω·cm | > 106Ω·cm | |
| TTV | ≤ 10 micras | |||
| Arco | - 10 µm ≤ ARCO ≤ 10 µm | |||
| Rugosidad de la superficie de la cara Ga | < 0,2 nm (pulido) o < 0,3 nm (pulido y tratamiento superficial para epitaxia) |
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| Rugosidad de la superficie de la cara N | 0,5 ~ 1,5 micras opción: 1~3 nm (molienda fina);< 0,2 nm (pulido) |
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| Densidad de dislocación | Desde 1x105a 3 x 106cm-2(calculado por CL)* | |||
| Densidad de macrodefectos | 0cm-2 | |||
| Área utilizable | > 90% (exclusión de bordes) | |||
| Paquete | Empaquetado en un ambiente de sala limpia de clase 100, en un contenedor de 6 PCS, bajo una atmósfera de nitrógeno | |||
*Estándares nacionales de China (GB/T32282-2015)
Sobre nosotros
Nos especializamos en el procesamiento de una variedad de materiales en obleas, sustratos y piezas de vidrio óptico personalizadas. Componentes ampliamente utilizados en electrónica, óptica, optoelectrónica y muchos otros campos.También hemos estado trabajando en estrecha colaboración con muchas universidades, instituciones de investigación y empresas nacionales y extranjeras, proporcionando productos y servicios personalizados para sus proyectos de I+D.Nuestra visión es mantener una buena relación de cooperación con todos nuestros clientes gracias a nuestra buena reputación.
Preguntas más frecuentes
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Somos fábrica.
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