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SI-tipo sin impurificar GaN Single Crystal Substrate Resistivity libre de la Uno-cara 5*10mm2 > 10 ⁶ Ω·Oblea de los radioinstrumentos del cm

Certificación
CHINA Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd. certificaciones
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SI-tipo sin impurificar GaN Single Crystal Substrate Resistivity libre de la Uno-cara 5*10mm2 > 10 ⁶ Ω·Oblea de los radioinstrumentos del cm

SI-tipo sin impurificar GaN Single Crystal Substrate Resistivity libre de la Uno-cara 5*10mm2 > 10 ⁶ Ω·Oblea de los radioinstrumentos del cm
SI-tipo sin impurificar GaN Single Crystal Substrate Resistivity libre de la Uno-cara 5*10mm2 > 10 ⁶ Ω·Oblea de los radioinstrumentos del cm SI-tipo sin impurificar GaN Single Crystal Substrate Resistivity libre de la Uno-cara 5*10mm2 > 10 ⁶ Ω·Oblea de los radioinstrumentos del cm SI-tipo sin impurificar GaN Single Crystal Substrate Resistivity libre de la Uno-cara 5*10mm2 > 10 ⁶ Ω·Oblea de los radioinstrumentos del cm SI-tipo sin impurificar GaN Single Crystal Substrate Resistivity libre de la Uno-cara 5*10mm2 > 10 ⁶ Ω·Oblea de los radioinstrumentos del cm

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Datos del producto:
Lugar de origen: Suzhou China
Nombre de la marca: GaNova
Certificación: UKAS/ISO9001:2015
Número de modelo: JDCD01-001-006
Pago y Envío Términos:
Detalles de empaquetado: Envasado al vacío en un entorno de sala limpia de clase 10000, en casetes de 6 piezas o contenedores
Tiempo de entrega: 3-4 días de la semana
Condiciones de pago: T/T
Capacidad de la fuente: 10000pcs/Month

SI-tipo sin impurificar GaN Single Crystal Substrate Resistivity libre de la Uno-cara 5*10mm2 > 10 ⁶ Ω·Oblea de los radioinstrumentos del cm

descripción
Dimensiones: ² de 5 x de 10m m Grueso: 350 ±25µm
TTV: ≤ el 10µm Arco: - 10µm≤ ARCO ≤10µm
Densidad macra del defecto: ² 0cm⁻ Área usable: > el 90% (exclusión del borde)
Resaltar:

5*10mm2 GaN Substrato de cristal único

SI-tipo sin impurificar sola resistencia cristalina libre de la Uno-cara 5*10mm2 del substrato de GaN > 106 Ω·oblea de los radioinstrumentos del cm


Descripción
Las obleas finas de Epi son de uso general para los dispositivos del MOS del borde delantero. Epi grueso o las obleas epitaxiales de varias capas se utiliza para los dispositivos principalmente para controlar energía eléctrica, y están contribuyendo a mejorar la eficacia del consumo de energía.

El substrato del nitruro del galio (GaN) es un substrato monocristal de alta calidad. Se hace con método de HVPE y la tecnología de proceso originales de la oblea, que se ha desarrollado originalmente durante muchos años. Las características son alta uniformidad cristalina, buena, y calidad superficial superior.

Estas obleas de GaN realizan los diodos láser ultra-brillantes sin precedentes y los dispositivos de poder de gran eficacia para el uso en fuentes de luz del proyector, inversores para los vehículos eléctricos, y otros usos.

Substratos libres de un GaN de la cara
Artículo GAN-FS-UNO-U-s

GAN-FS-UNO-n-s

GAN-FS-UNO-SI-s

SI-tipo sin impurificar GaN Single Crystal Substrate Resistivity libre de la Uno-cara 5*10mm2 > 10 ⁶ Ω·Oblea de los radioinstrumentos del cm 0Observaciones:

Un ángulo circular del arco (R < 2="" mm="">

Dimensiones 5 x 10 milímetros2
Grueso µm 350 ±25
Orientación

Un avión (11-20) del ángulo hacia M-AXIS 0 ±0.5°

Un avión (11-20) del ángulo hacia C-AXIS - 1 ±0.2°

Tipo de la conducción N-tipo

N-tipo

Semiaislante
Resistencia (300K) < 0=""> < 0=""> > 106 Ω·cm
TTV µm del ≤ 10
ARCO - 10 µm del ≤ 10 del ARCO del ≤ del µm
Front Surface Roughness

< 0="">

o < 0="">

Aspereza superficial trasera

0,5 μm ~1,5

opción: 1~3 nanómetro (tierra fina); < 0="">

Densidad de dislocación A partir de 1 x 105 a 3 x 106 cm2s
Densidad macra del defecto 0 cm2s
Área usable > el 90% (exclusión del borde)
Paquete Empaquetado en un ambiente del sitio limpio de la clase 100, en envase de 6 PCS, bajo atmósfera del nitrógeno

Apéndice: El diagrama del ángulo del miscut

SI-tipo sin impurificar GaN Single Crystal Substrate Resistivity libre de la Uno-cara 5*10mm2 > 10 ⁶ Ω·Oblea de los radioinstrumentos del cm 1

Si ±0.5°del δ1 = 0, después un avión (11-20) del ángulo hacia M-AXIS es 0 ±0.5°.

Si δ2 = - 1 ±0.2°, después un avión (11-20) del ángulo hacia C-AXIS es - 1 ±0.2°.

Sobre nosotros

Nos especializamos en el proceso de una variedad de materiales en las obleas, los substratos y parts.components de cristal óptico modificado para requisitos particulares ampliamente utilizados en electrónica, la óptica, la electrónica opta y muchos otros campos. También hemos estado trabajando de cerca con muchos nacionales y las universidades, las instituciones de investigación y las compañías de ultramar, proporcionan productos modificados para requisitos particulares y los servicios para sus proyectos del R&D. Es nuestra visión a mantener una buena relación de la cooperación con nuestros todos los clientes por nuestras buenas reputaciones.

FAQ

Q: ¿Es usted empresa comercial o el fabricante?
Somos fábrica.
Q: ¿Cuánto tiempo es su plazo de expedición?
Es generalmente 3-5 días si las mercancías están en existencia.
o es 7-10 días si las mercancías no están en existencia, él está según cantidad.
Q: ¿Usted proporciona muestras? ¿está él libremente o adicional?
Sí, podríamos ofrecer la carga de la muestra gratis pero no pagamos el coste de carga.
Q: ¿Cuál es sus términos del pago?
Pago <> >=5000USD, el 80% T/T del pago por adelantado, balanza antes del envío.

Contacto
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

Persona de Contacto: Xiwen Bai (Ciel)

Teléfono: +8613372109561

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